研究経歴 【 表示 ／ 非表示 】

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• シリコン　ゲートスタックに関する研究

  研究期間：  - 

著書 【 表示 ／ 非表示 】

著書 【 表示 ／ 非表示 】

• アナログ集積回路設計技術

  浅田邦博，永田 穰　監修 (担当： 共著 )

  培風館  2003年07月

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  8．帰還　を担当

学位論文 【 表示 ／ 非表示 】

学位論文 【 表示 ／ 非表示 】

• SiO2中のトラップによる電子捕獲に関する研究

  羽路　伸夫

    1985年03月

  学位論文（博士）   単著

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  東京大学 MOSFETのゲート絶縁膜に用いられるシリコン酸化膜中の電子トラップについて，アバランシェ注入による測定システムの構築と，トラップ密度と捕獲断面積の新しい解析手法を提案し，その有効性を明らかにした．また，プラズマ陽極酸化に塩素を添加することが，膜質の改善に有効であることも明らかにした．

• 電子ビームアニールに関する研究

  羽路　伸夫

    1982年03月

  学位論文（修士）   単著

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  東京大学 Siへのイオン打ち込み後のダメージの回復について，不純物の再分布が小さい低電圧大電流の走査型電子ビームアニールを行い，特性を評価した．また，本方法を用いて自己整合型MOSFETを試作した．

論文 【 表示 ／ 非表示 】

論文 【 表示 ／ 非表示 】

• Preparation of Amorphous Fluorinated Carbon Film Using Low Global-Warming Potential Gas, C4F6, by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

  Hiroki Watanabe, Takumi Tokimitsu, Jyunko Shiga, Nobuo Haneji and Yukihiro Shimogaki

  Jap. J. Appl. Phys   45 ( 6 ) L151 - L153   2006年02月  [査読有り]

  共著

  Web of Science

• Improved Etched Surface Morphology in Electron Cyclotron Resonance-Reactive Ion Etching of GaN by Cyclic Injection of CH4/H2/Ar and O2 with Constant Ar Flow

  Taro Arakawa, Yoshiki Awa, Tomoyoshi Ide, Nobuo Haneji, Kunio Tada, Masakazu Sugiyama, Hiromasa Shi … 全著者表示

  Jap. J. Appl. Phys   44 ( 7B ) 5819 - 5823   2005年06月  [査読有り]

  共著

  Web of Science

• Electrical and Thermal Stability Characteristics of HfCN Films as Metal Gate-Electrode Synthesized by Metalorganic Chemical Vapor Deposition

  Wenwu Wang, Toshihide Nabatame, Nobuo Haneji and Yukihiro Shimogaki

  Jap. J. Appl. Phys   44 ( 32 ) L1019 - 1021   2005年06月  [査読有り]

  共著

  Web of Science

• 液相堆積シリコン酸化膜／シリコン界面特性の改善

  羽路伸夫,ポーンケオ・チャンタマリー,毛利重信

  電気学会論文誌C   123 ( 10 ) 1695 - 1699   2003年10月  [査読有り]

  共著

• Electron Cyclotron Resonance-Reactive Ion Etching of III-V Semiconductors by Cyclic Injection of CH4/H2/Ar and O2 with Constant Ar Flow

  N. Haneji, G. Segami, T. Ide, T. Suzuki, T. Arakawa, K. Tada, Y. Shimogaki and Y. Nakano

  Jpn. J. Appl. Phys.   42 ( 6B ) 3958 - 3961   2003年06月  [査読有り]

  共著

  Web of Science

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総説・解説記事 【 表示 ／ 非表示 】

総説・解説記事 【 表示 ／ 非表示 】

• シリコン酸化膜を水中で作る－室温での液相堆積法

  BREAK THROUG   161   7 - 10   1999年

  総説・解説（その他）   単著

共同・受託研究情報 【 表示 ／ 非表示 】

共同・受託研究情報 【 表示 ／ 非表示 】

• WLPにおける内蔵キャパシタンス

  国内共同研究  

  研究期間： 2005年10月  -  2007年03月 

担当授業科目（学内） 【 表示 ／ 非表示 】

担当授業科目（学内） 【 表示 ／ 非表示 】

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