研究者詳細 - 伊藤　暁彦

総説・解説記事等 - 伊藤　暁彦

件数 17 件

透明セラミックス結晶の高効率製造

伊藤暁彦

月刊機能材料 3 3 - 9 2024年3月 [依頼有り]

担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者記述言語：日本語掲載種別：記事・総説・解説・論説等（商業誌、新聞、ウェブメディア）単著

化学気相析出法による材料の表面改質による高機能化

伊藤暁彦

粉体工学会誌 60 ( 12 ) 754 - 759 2023年12月 [査読有り] [依頼有り]

DOI CiNii Research

担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者記述言語：日本語掲載種別：記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）出版者・発行元：一般社団法人粉体工学会単著

<p>Surface modification by coating ceramic layers can add new functionality to substrate materials or can protect substrate materials from harsh environments. Materials design in surface modification will be greatly enhanced by precise and careful control of crystal orientation and microstructure in the ceramic coatings. Chemical vapor deposition (CVD) is a versatile coating method with excellent controllability of crystal orientation and microstructure by deposition conditions and conformal step coverage on not only wafer substrate with processed surface but powder or fiber substances. This article introduces self-oriented growth and epitaxial growth as methods for controlling crystal orientation and microstructure in CVD process, and novel self-organized phenomena with ordered structure in ceramic eutectic systems via CVD process.</p>

SiC繊維表面への界面制御コーティング技術と力学特性評価

伊藤暁彦, 後藤健

セラミックス 55 ( 6 ) 431 - 435 2020年6月 [査読有り] [依頼有り]

記述言語：日本語掲載種別：記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）出版者・発行元：日本セラミックス協会共著

レーザーを援用した化学気相析出法によるセラミックスの自己配向成長

伊藤暁彦

セラミックス 55 ( 2 ) 98 - 102 2020年2月 [査読有り] [依頼有り]

記述言語：日本語掲載種別：記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）出版者・発行元：日本セラミックス協会単著

レーザーを援用した化学気相析出法における高温構造用および機能性セラミックス材料の自己配向成長および高速エピタキシャル成長について紹介する．

その他リンク： https://member.ceramic.or.jp/journal/login_check.php?target=/journal/content/pdf/55_2_98.pdf

レーザを利用した高速CVDによるセラミックコーティングの新展開

伊藤暁彦

溶射 55 ( 4 ) 170 - 176 2018年10月 [査読有り] [依頼有り]

記述言語：日本語掲載種別：記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）出版者・発行元：日本溶射学会単著

その他リンク： https://ci.nii.ac.jp/naid/40021722079

通電焼結による透明セラミックスの高速合成とレーザー媒質への応用

伊藤暁彦, 後藤孝

セラミックス 52 ( 4 ) 242 - 244 2017年4月 [査読有り] [依頼有り]

記述言語：日本語掲載種別：記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）出版者・発行元：日本セラミックス協会共著

その他リンク： https://ci.nii.ac.jp/naid/40021350419

レーザー光を利用した気相からの高速結晶成長

伊藤暁彦

応用物理 85 ( 7 ) 590 - 594 2016年7月 [査読有り] [依頼有り]

記述言語：日本語掲載種別：記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）出版者・発行元：応用物理学会単著

一般に，レーザー光を用いた材料の合成では，パルスレーザーを集光して局所的に大きなエネルギーを得る．これに対して，連続発振レーザーを広げて用いることで，大きな領域に活性な化学気相成長場を作り出すことができる．気相からの自己配向成長や自己組織化の技術は，実用工業材料に新たな価値を見いだすものである．本稿では，レーザー光を利用した実用セラミックス材料の化学気相成長法（CVD）を紹介し，電子顕微鏡を通して気相からの高速結晶成長を観察する．

その他リンク： https://www.jstage.jst.go.jp/article/oubutsu/85/7/85_590/_article/-char/ja/

cBN基コンポジット工具材料の開発

伊藤暁彦, 後藤孝

金属 85 ( 7 ) 535 - 542 2015年7月 [依頼有り]

記述言語：日本語掲載種別：記事・総説・解説・論説等（商業誌、新聞、ウェブメディア）出版者・発行元：アグネ技術センター共著

その他リンク： http://www.agne.co.jp/kinzoku/kin1085.htm#no1146

高強度レーザー場での高速化学気相析出を利用した高配向結晶成長

伊藤暁彦

まてりあ 52 ( 11 ) 525 - 529 2013年11月 [査読有り] [依頼有り]

記述言語：日本語掲載種別：記事・総説・解説・論説等（学術雑誌）出版者・発行元：日本金属学会単著

その他リンク： http://ci.nii.ac.jp/naid/130003388685

レーザーCVDによる超硬コーティングの配向制御