研究発表 - 菊地 あづさ
件数 74 件-
P8109 光安定化剤ジオクチルヒドロキシジメトキシベンジリデンマロネートの最低励起三重項状態と光安定化機構
五十嵐寛真，八木幹雄，菊地あづさ
第14回CSJ化学フェスタ２０２４ 2024年10月 日本化学会
開催年月日： 2024年10月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：船堀タワーホール
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P4-2vn-07 抗マラリア薬キニーネ光増感一重項酸素のカテコール関連化合物による生 成抑制
吉本雄翔・八木 幹雄・菊地 あづさ
日本化学会第104春季年会 2024年3月 日本化学会
開催年月日： 2024年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：日本大学 船橋キャンパス
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E1131-3am-02 光安定化剤ジオクチルヒドロキシジメトキシベンジリデンマロネート の光励起状態と光安定化機構
五十嵐 寛真，八木幹雄，菊地あづさ
日本化学会第104春季年会 2024年3月 日本化学会
開催年月日： 2024年3月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：日本大学 船橋キャンパス
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E1132-2am-04 インドール誘導体によるキサンテン系色素光増感一重項酸素の生成抑 制
岡嶋 紀人，八木 幹雄，菊地 あづさ
日本化学会第104春季年会 2024年3月 日本化学会
開催年月日： 2024年3月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：日本大学 船橋キャンパス
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P4-2vn-16] トリフェニルイミダゾール誘導体による一重項酸素センサーの開拓
福岡 悠奈・八木 幹雄・菊地 あづさ
日本化学会第104春季年会 2024年3月 日本化学会
開催年月日： 2024年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：日本大学 船橋キャンパス
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3C08 抗マラリア薬キニーネの光励起三重項状態と一重項酸素光増感生成抑制
菊地 あづさ・鈴木 雄大・吉本 雄翔・北村 優作1・八木 幹雄
2023年光化学討論会 2023年9月 光化学協会
開催年月日： 2023年9月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：広島国際会議場
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P1-1vn-06 水溶性有機紫外線吸収分子，ベンズイミダゾール誘導体によるリボフラビン光増感一重項酸素生成抑制
久永 壮一郎・八木 幹雄・菊地 あづさ
日本化学会第103春季年会 2023年3月 日本化学会
開催年月日： 2023年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：東京理科大学 野田キャンパス
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P1-1vn-13 抗マラリア薬キニーネの光励起三重項状態と一重項酸素光増感生成抑制
鈴木雄大・八木 幹雄・菊地 あづさ
日本化学会第103春季年会 2023年3月 日本化学会
開催年月日： 2023年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：東京理科大学 野田キャンパス
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2P09 エリスロシンB光増感一重項酸素の生成抑制
伊藤 貴大・八木 幹雄・菊地 あづさ
2022年光化学討論会 2022年9月 光化学協会
開催年月日： 2022年9月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：京都大学 桂キャンパス
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2P30 カテコール類によるリボフラビン光増感一重項酸素の生成抑制
杢師 啓斗・八木 幹雄・菊地 あづさ
2022年光化学討論会 2022年9月 光化学協会
開催年月日： 2022年9月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：京都大学 桂キャンパス
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1C07 生体内分子光増感一重項酸素生成抑制機構
菊地 あづさ、松原 航那、林 拓実、杢師 啓斗、八 木 幹雄
2021年光化学討論会（Web光化学討論会） 2021年9月 光化学協会
開催年月日： 2021年9月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：オンライン開催 ビデオ会議システム（Zoom）
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3P040 サリチル酸誘導体によるリボフラビン光増感一重項酸素
樋口真，八木 幹雄，菊地 あづさ
2020年光化学討論会（Web光化学討論会） 光化学協会
開催年月日： 2020年9月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：オンライン開催 ビデオ会議システム（Zoom）
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3P039 リボフラビン光増感一重項酸素生成に対するアミノ酸の 生成抑制効果
小島賢也，八木 幹雄，菊地 あづさ
2020年光化学討論会（Web光化学討論会） 光化学協会
開催年月日： 2020年9月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：オンライン開催 ビデオ会議システム（Zoom）
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1PB087 Quenching and Suppression of Riboflavin-Photosensitized Singlet Oxygen Generation by Purines
松原航那，八木幹雄，菊地あづさ
日本化学会第100春季年会 日本化学会
開催年月日： 2020年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：東京理科大学 野田キャンパス
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1PB077 Quenching and Suppression of Riboflavin-Photosensitized Singlet Oxygen Generation by Salicylic Acid Derivatives
樋口真，八木幹雄，菊地あづさ
日本化学会第100春季年会 日本化学会
開催年月日： 2020年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：東京理科大学 野田キャンパス
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1PB085 Quenching and Suppression of Ergosterol (Provitamin D2) - Photosensitized Singlet Oxygen Generation by Vitamin E and its Analog
飯窪有悠輝也，八木幹雄，菊地あづさ
日本化学会第100春季年会 日本化学会
開催年月日： 2020年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：東京理科大学 野田キャンパス
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1PB086 Quenching and Suppression of Pyridoxal 5’-Phosphate (Active Form of Vitamin B6)-Sensitized Singlet Oxygen Generation by Vitamin Analogs
豊川章太朗，八木幹雄，菊地あづさ
日本化学会第100春季年会 日本化学会
開催年月日： 2020年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：東京理科大学 野田キャンパス
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1PB076 Suppression of Riboflavin-Photosensitized Singlet Oxygen Generation by Amino Acids
小島賢也，八木幹雄，菊地あづさ
日本化学会第100春季年会 日本化学会
開催年月日： 2020年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：東京理科大学 野田キャンパス
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1C06 生体内分子リボフラビンからの光増感一重項酸素生成抑制
松原航那，清水良平，新城知佳，八木 幹雄，菊地 あづさ
2019年光化学討論会 光化学協会
開催年月日： 2019年9月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：名古屋大学・東山キャンパス
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4 生体内光増感分子リボフラビンからの一重項酸素生成抑制
菊地あづさ，清水良平，八木幹雄
第41回光医学・光生物学会 光医学・光生物学会
開催年月日： 2019年7月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：ホテルグランテラス富山
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2E3-48 生体内光増感分子リボフラビンからの一重項酸素生成抑制
菊地あづさ，清水良平，福地調，八木幹雄
日本化学会第99春季年会 日本化学会第99春季年会
開催年月日： 2019年3月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：甲南大学 岡本キャンパス
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1C13 生体内光増感物質からの一重項酸素生成抑制
菊地 あづさ，清水良平，新城知佳，八木 幹雄
2018年光化学討論会 光化学協会
開催年月日： 2018年9月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：関西学院大学・上ケ原キャンパス
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Os-07 2,4,5-トリフェニルイミダゾール誘導体による一重項酸素消光
新城知佳，八木幹雄，菊地あづさ
第71回酸化ストレス学会 日本酸化ストレス学会
開催年月日： 2018年5月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：京都ホテルオークラ
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Ps-03 3-O-エチルアスコルビン酸による一重項酸素消光
北阪翔伍，清水良平，八木幹雄，菊地あづさ
第71回酸化ストレス学会 日本酸化ストレス学会
開催年月日： 2018年5月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：京都ホテルオークラ
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生体内分子光増感一重項酸素生成抑制機構
菊地あづさ，松原航那，林拓実，杢師啓斗，八木幹雄
光化学討論会2021 2021年9月 光化学協会
開催年月日： 2021年9月
記述言語：英語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：朱鷺メッセ 新潟コンベンションセンター（Zoomミーティング） 国名：日本国
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P9-112 プリン誘導体によるリボフラビン増感一重項酸素生成抑制
廣川真，八木幹雄，菊地あづさ
第14回CSJ化学フェスタ２０２４ 2024年10月 日本化学会
開催年月日： 2024年10月
記述言語：英語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：船堀タワーホール
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P9-107 トリフェニルイミダゾール誘導体による一重項酸素センサーの検討
福岡悠奈，八木幹雄，菊地あづさ
第14回CSJ化学フェスタ２０２４ 2024年10月 日本化学会
開催年月日： 2024年10月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：船堀タワーホール
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P7-096 抗マラリア薬キニーネ関連化合物による光増感一重項酸素生成抑制
吉本雄翔，八木幹雄，菊地あづさ
第14回CSJ化学フェスタ２０２４ 2024年10月 日本化学会
開催年月日： 2024年10月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：船堀タワーホール
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P8-104 キサンテン系色素光増感一重項酸素生成のインドール誘導体による抑制機構
岡嶋紀人，八木幹雄，菊地あづさ
第14回CSJ化学フェスタ２０２４ 2024年10月 日本化学会
開催年月日： 2024年10月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：船堀タワーホール
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プリン類による生体内光増感分子リボフラビンからの一重項酸素生成抑制
松原航那，八木幹雄，菊地あづさ
第42回日本光医学・光生物学会 2021年1月 日本光医学・光生物学会
開催年月日： 2021年1月
記述言語：英語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：日本橋ライフサイエンスビル9階（Zoomミーティング） 国名：日本国
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Ps-01 α‐トコフェロール誘導体の光励起状態および一重項酸素の生成と消光
福地調，八木幹雄，菊地あづさ
第71回酸化ストレス学会 日本酸化ストレス学会
開催年月日： 2018年5月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：京都ホテルオークラ
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Ps-02 リボフラビン光増感一重項酸素生成のビタミン誘導体による生成抑制
清水良平，北阪翔伍，八木幹雄，菊地あづさ
第71回酸化ストレス学会 日本酸化ストレス学会
開催年月日： 2018年5月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：京都ホテルオークラ
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2PC-043 光安定剤ナフタレンジカルボン酸ジエチルヘキシル（コラパンTQ）の光励起状態
清水良平，八木幹雄，菊地あづさ
日本化学会第96春季年会「2PC-043 光安定剤ナフタレンジカルボン酸ジエチルヘキシル（コラパンTQ）の光励起状態」 日本化学会第97春季年会
開催年月日： 2017年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：慶応義塾大学 日吉キャンパス
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2PC-044 室温溶液中の紫外線吸収剤間三重項－三重項エネルギー移動
松本涼奈，八木幹雄，菊地あづさ
日本化学会第96春季年会「2PC-044 室温溶液中の紫外線吸収剤間三重項－三重項エネルギー移動」 日本化学会第97春季年会
開催年月日： 2017年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：慶応義塾大学 日吉キャンパス
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2P090 蛍光性発色団BODIPYを有するナフトピラン誘導体の合成およびフォトクロミック挙動
間淵陽，八木 幹雄，菊地 あづさ
2016年光化学討論会「3P090 蛍光性発色団BODIPYを有するナフトピラン誘導体の合成およびフォトクロミック挙動」 2016年光化学討論会
開催年月日： 2016年9月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：東京大学 駒場第一キャンパス
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3D04 蛍光性発色団BODIPYを有するナフトピラン誘導体の蛍光スイッチング特性
宮澤悠介，平本祐也，八木 幹雄，菊地 あづさ
2016年光化学討論会「3D04 蛍光性発色団BODIPYを有するナフトピラン誘導体の蛍光スイッチング特性」 2016年光化学討論会
開催年月日： 2016年9月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：東京大学 駒場第一キャンパス
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2P106 UV-A吸収分子ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（ユビナールAプラス）の光励起状態と一重項酸素消光
社本 裕太，八木 幹雄，小口 希，宮沢 和之，菊地 あづさ
2016年光化学討論会「2P106 UV-A吸収分子ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（ユビナールAプラス）の光励起状態と一重項酸素消光」 2016年光化学討論会
開催年月日： 2016年9月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：東京大学 駒場第一キャンパス
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3PB-053 UV-A吸収分子ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（ユビナールAプラス）の光励起状態
社本裕太，菊地あづさ，小口希，宮沢和之，八木幹雄
日本化学会第96春季年会「3PB-053 UV-A吸収分子ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（ユビナールAプラス）の光励起状態」 日本化学会第96春季年会
開催年月日： 2016年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：同志社大学 京田辺キャンパス
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3PB-055 蛍光性発色団BODIPYを有する高速フォトクロミックナフトピラン誘導体の合成および蛍光特性
間淵陽，八木幹雄，菊地あづさ
日本化学会第96春季年会「3PB-055 蛍光性発色団BODIPYを有する高速フォトクロミックナフトピラン誘導体の合成および蛍光特性」 日本化学会第96春季年会
開催年月日： 2016年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：同志社大学 京田辺キャンパス
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3PB-054 蛍光性発色団BODIPYを有するナフトピラン誘導体の蛍光スイッチング特性
宮澤悠介，平本裕也，八木幹雄，菊地あづさ
日本化学会第96春季年会「3PB-054 蛍光性発色団BODIPYを有するナフトピラン誘導体の蛍光スイッチング特性」 日本化学会第96春季年会
開催年月日： 2016年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：同志社大学 京田辺キャンパス
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3A7-15 UV-B吸収剤エチルヘキシルトリアゾンおよびジエチルヘキシルブタミドトリアゾンの光励起状態
土谷卓史，菊地あづさ，小口希，宮沢和之，八木幹雄
日本化学会第95春季年会「3A7-15 UV-B吸収剤エチルヘキシルトリアゾンおよびジエチルヘキシルブタミドトリアゾンの光励起状態」 日本化学会第95春季年会
開催年月日： 2015年3月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：日本大学理工学部 船橋キャンパス
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3A7-16 エネルギードナーりん光消光による紫外線吸収剤間三重項ー三重項エネルギー移動
半井優也，菊地あづさ，八木幹雄
日本化学会第95春季年会「3A7-16 エネルギードナーりん光消光による紫外線吸収剤間三重項ー三重項エネルギー移動」 日本化学会第95春季年会
開催年月日： 2015年3月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：日本大学理工学部 船橋キャンパス
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2PA-107 サリチル酸エステル系紫外線吸収剤の光励起状態と一重項酸素の光増感生成
杉山一翔，菊地あづさ，八木幹雄
日本化学会第94春季年会「2PA-107 サリチル酸エステル系紫外線吸収剤の光励起状態と一重項酸素の光増感生成」 日本化学会第94春季年会
開催年月日： 2014年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：名古屋大学
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2PA-107 サリチル酸エステル系紫外線吸収剤の光励起状態と一重項酸素の光増感生成
屋中智生，菊地あづさ，八木幹雄
日本化学会第94春季年会「2PA-108 紫外線吸収剤アミノ安息香酸誘導体による一重項酸素の光増感生成と消光」 日本化学会第94春季年会
開催年月日： 2014年3月
記述言語：日本語 会議種別：ポスター発表
開催地：名古屋大学
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UV-A吸収剤アントラニル酸メンチルの励起状態と緩和過程
熊坂亮，杉山一翔，平本祐也，屋中智生，菊地あづさ，八木幹雄
第52回電子スピンサイエンス学会「UV-A吸収剤アントラニル酸メンチルの励起状態と緩和過程」
開催年月日： 2013年10月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：大宮ソニックシティ
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3PC-055 紫外線吸収剤ベンゾトリアゾール誘導体の光励起状態
日本化学会第93春季年会「3PC-055 紫外線吸収剤ベンゾトリアゾール誘導体の光励起状態」
開催年月日： 2013年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：立命館大学 びわこ・くさつキャンパス
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紫外線吸収剤ジオクチルヒドロキシジメトキシベンジリデンマロネートの励起状態
日本化学会第93春季年会「3PC-054 紫外線吸収剤ジオクチルヒドロキシジメトキシベンジリデンマロネートの励起状態」
開催年月日： 2013年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：立命館大学 びわこ・くさつキャンパス
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UV-AおよびUV-B領域に吸収剤を有する新規紫外線吸収剤の合成と光励起状態
日本化学会第93春季年会「3PC-057 UV-AおよびUV-B領域に吸収剤を有する新規紫外線吸収剤の合成と光励起状態」
開催年月日： 2013年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：立命館大学 びわこ・くさつキャンパス
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有機系紫外線吸収剤からの一重項酸素の光増感生成
日本化学会第93春季年会「3PC-056 有機系紫外線吸収剤からの一重項酸素の光増感生成」
開催年月日： 2013年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：立命館大学 びわこ・くさつキャンパス
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UV-A吸収剤アントラニル酸メンチルの励起状態と緩和過程
第51回電子スピンサイエンス学会「UV-A吸収剤アントラニル酸メンチルの励起状態と緩和過程」
開催年月日： 2012年11月
記述言語：その他外国語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：札幌コンベンションセンター
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紫外線吸収剤ベンゾフェノン-3およびベンゾフェノン-6のりん光増強現象
光化学討論会2012「紫外線吸収剤ベンゾフェノン-3およびベンゾフェノン-6のりん光増強現象」
開催年月日： 2012年9月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：東工大 大岡山キャンパス
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UV-B吸収剤Dioctyl 4-Methoxybenzylidenemalonateの励起状態と光安定性
光化学討論会2012「UV-B吸収剤Dioctyl 4-Methoxybenzylidenemalonateの励起状態と光安定性」
開催年月日： 2012年9月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：東工大 大岡山キャンパス
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紫外線吸収剤メトキシクリレンエチルヘキシルの励起状態
日本化学会第92春季年会「紫外線吸収剤メトキシクリレンエチルヘキシルの励起状態」
開催年月日： 2012年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：慶応大学 日吉キャンパス・矢上キャンパス
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紫外線吸収剤2,2'－ジヒドロキシ4,4'－ジメトキシベンゾフェノンの励起状態
日本化学会第92春季年会「紫外線吸収剤2,2'－ジヒドロキシ4,4'－ジメトキシベンゾフェノンの励起状態」
開催年月日： 2012年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：慶応大学 日吉キャンパス・矢上キャンパス
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紫外線吸収剤アントラニル酸メンチルの励起状態
日本化学会第92春季年会「紫外線吸収剤アントラニル酸メンチルの励起状態」
開催年月日： 2012年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：慶応大学 日吉キャンパス・矢上キャンパス
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有機系紫外線吸収剤間のエネルギー移動
第50回電子スピンサイエンス学会「有機系紫外線吸収剤間のエネルギー移動」
開催年月日： 2011年11月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：仙台国際センター
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有機系紫外線吸収剤ケイ皮酸メチルフェニルエステルの励起状態
日本化学会第91春季年会「有機系紫外線吸収剤ケイ皮酸メチルフェニルエステルの励起状態」
開催年月日： 2011年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：神奈川大学
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ヘキサアリールビスイミダゾール骨格を有する無機-有機ハイブリッド材料の創生と光誘起表面レリーフ
日本化学会第91春季年会「ヘキサアリールビスイミダゾール骨格を有する無機-有機ハイブリッド材料の創生と光誘起表面レリーフ」
開催年月日： 2011年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：神奈川大学
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UV-B紫外線吸収剤の励起状態
日本化学会第91春季年会「UV-B紫外線吸収剤の励起状態」
開催年月日： 2011年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：神奈川大学
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有機系紫外線吸収剤の励起状態
日本化学会第91春季年会「有機系紫外線吸収剤の励起状態」
開催年月日： 2011年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：神奈川大学
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有機系紫外線吸収剤間の光励起状態
第49回電子スピンサイエンス学会「有機系紫外線吸収剤間の光励起状態」
開催年月日： 2010年11月
記述言語：その他外国語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：名古屋大学
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Photoinduced Diffusive Mass Transfer in Amorphous Thin Films of Hexaarylbiimidazole Derivatives
The 6th International Symposium on Organic Photochromism (ISOP'10) [Photoinduced Diffusive Mass Transfer in Amorphous Thin Films of Hexaarylbiimidazole Derivatives]
開催年月日： 2010年10月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：Nisseki Yokohama Hall
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Photoinduced Sueface Relief Grating Formations Using Azo-HABI Amorphous Thin Films
Third Japanease-French Joint Seminar on Organic Photochromism-Innovations in Photochromism-[Photoinduced Sueface Relief Grating Formations Using Azo-HABI Amorphous Thin Films]
開催年月日： 2010年10月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：Nisseki Yokohama Hall
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Photoinduced Sueface Relief Grating Formations on Amorphous Thin Films of Hexaarylbiimidazole Derivatives
Third Japanease-French Joint Seminar on Organic Photochromism-Innovations in Photochromism-[Photoinduced Sueface Relief Grating Formations on Amorphous Thin Films of Hexaarylbiimidazole Derivatives]
開催年月日： 2010年10月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：Nisseki Yokohama Hall
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ヘキサアリールビスイミダゾール誘導体のアモルファス薄膜における光誘起表面レリーフ形成
光化学討論会2010「ヘキサアリールビスイミダゾール誘導体のアモルファス薄膜における光誘起表面レリーフ形成」
開催年月日： 2010年9月
記述言語：その他外国語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：千葉大学西千葉キャンパス
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紫外線吸収剤ケイ皮酸誘導体の励起状態
光化学討論会2010「紫外線吸収剤ケイ皮酸誘導体の励起状態」
開催年月日： 2010年9月
記述言語：その他外国語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：千葉大学西千葉キャンパス
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紫外線吸収剤ショウノウ誘導体の光励起状態
光化学討論会2010「紫外線吸収剤ショウノウ誘導体の光励起状態」
開催年月日： 2010年9月
記述言語：その他外国語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：千葉大学西千葉キャンパス
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イミダゾール誘導体の光励起状態
光化学討論会2010「イミダゾール誘導体の光励起状態」
開催年月日： 2010年9月
記述言語：その他外国語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：千葉大学西千葉キャンパス
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有機系紫外線吸収剤の励起状態
光化学討論会2010「有機系紫外線吸収剤の励起状態」
開催年月日： 2010年9月
記述言語：その他外国語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：千葉大学西千葉キャンパス
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紫外線吸収剤ケイ皮酸誘導体の励起状態
日本化学会第90春季年会「紫外線吸収剤ケイ皮酸誘導体の励起状態」
開催年月日： 2010年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：近畿大学東大阪キャンパス
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ヘキサアリールビスイミダゾール誘導体のアモルファス薄膜における光誘起表面レリーフ形成
日本化学会第90春季年会「ヘキサアリールビスイミダゾール誘導体のアモルファス薄膜における光誘起表面レリーフ形成」
開催年月日： 2010年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：近畿大学東大阪キャンパス
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UV–A紫外線吸収剤の励起状態
日本化学会第90春季年会「UV–A紫外線吸収剤の励起状態」
開催年月日： 2010年3月
記述言語：その他外国語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：近畿大学東大阪キャンパス
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有機系UV-A紫外線吸収剤ブチルメトキシジベンゾイルメタンの光励起状態
第48回電子スピンサイエンス学会「有機系UV-A紫外線吸収剤ブチルメトキシジベンゾイルメタンの光励起状態」
開催年月日： 2009年11月
記述言語：その他外国語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：神戸大学 百年記念会館六甲ホール
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Photoinduced Surface Relief Formation in Radical Dissociative Photochromic Compounds
XXII IUPAC 2008-Symposium on Photochemistry- [Photoinduced Surface Relief Formation in Radical Dissociative Photochromic Compounds]
開催年月日： 2008年7月
記述言語：その他外国語 会議種別：ポスター発表
開催地：Sweden, Gothenburg