|
所属組織 |
安全衛生推進機構 安全衛生センター |
|
職名 |
特任教員（准教授） |
学歴 【 表示 ／ 非表示 】
-
1985年4月-1988年3月
広島大学 大学院工学研究科 工業化学専攻 博士課程 修了
-
1983年4月-1985年3月
広島大学 大学院環境科学研究科 環境科学専攻 修士課程（博士前期課程） 修了
-
1979年4月-1983年3月
広島大学 工学部 第四類（建設系）地域工学課程 卒業
学外略歴 【 表示 ／ 非表示 】
-
2022年4月-2025年3月
青山学院大学 環境安全センター 助手
-
2017年7月-2022年3月
東芝インフラシステムズ株式会社 小向事業所 職員（技術系）
-
1989年4月-2017年6月
株式会社東芝 研究開発センター・小向事業所 職員（技術系）
-
1987年4月-1989年3月
日本学術振興会 日本学術振興会特別研究員
論文 【 表示 ／ 非表示 】
-
Optimization of On-Line Liquid-Liquid Extraction for Beryllium Determination by Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectrometry (ICP-AES)
Yasuaki Okamoto, Fumio Nakata, Yoichi Obata, Teruo Takahashi, Terufumi Fujiwara, Manabu Yamamoto
Journal of Analytical Atomic Spectrometry 17 277 - 279 2002年2月 [査読有り]
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 共著
-
Orientation Dependence of HgCdTe Epitaxial Layers Grown by MOCVD on Si Substrates
Keitaro Shigenaka, Keiichi Matsushita, Lisa Sugiura, Fumio Nakata, Keijiro Hirahara, Masahiro Uchik … 全著者表示
Keitaro Shigenaka, Keiichi Matsushita, Lisa Sugiura, Fumio Nakata, Keijiro Hirahara, Masahiro Uchikoshi, Mitsuhiro Nagashima, Hideo Wada 閉じる
Journal of Electronic Materials 25 1347 - 1352 1996年8月 [査読有り]
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス） 共著
-
Lattice Relaxation in Large Mismatch Systems of (111)CdTe/(100)GaAs and (133)CdTe/(211)GaAs Layers
Keitaro Shigenaka, Lisa Sugiura, Fumio Nakata, Keijiro Hirahara
Journal of Crystal Growth 145 376 - 381 1994年12月 [査読有り]
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス） 共著
-
Misfit Dislocation Microstructure and Kinetics of HgCdTe/CdZnTe under Tensile and Compressive Stress
Lisa Sugiura, Keitaro Shigenaka, Fumio Nakata, Keijiro Hirahara
Journal of Crystal Growth 145 547 - 551 1994年12月 [査読有り]
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス） 共著
-
Direct Measurement of Isotope Ratio of Antimony in Seawater by Hydride Generation/Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry
Takahiro Kumamaru, Manabu Yamamoto, Fumio Nakata, Hiroyuki Tsubota, Ko-ichi Nishikida
Analytical Sciences 10 ( 4 ) 651 - 653 1994年8月 [査読有り]
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 共著
産業財産権 【 表示 ／ 非表示 】
-
半導体多波長撮像素子とその製造方法
重中 圭太郎, 中田 文夫
出願人：株式会社東芝
出願番号：09386294 出願日：1999年8月31日
-
半導体多波長撮像素子とその製造方法
重中 圭太郎, 中田 文夫
出願人：株式会社東芝
出願番号：特願平11-246174 出願日：1999年8月31日
公開番号：特開2000-150851 公開日：2000年5月30日
-
半導体多波長撮像素子とその製造方法
重中 圭太郎, 中田 文夫
出願人：株式会社東芝
出願番号：特願平10-247347 出願日：1998年9月1日
-
フォトダイオードの製造方法
中田 文夫, 山崎 真嗣
出願人：株式会社東芝
出願番号：特願平10-247352 出願日：1998年9月1日
公開番号：特開2000-077704 公開日：2000年3月14日
-
配列型赤外線検知装置及びその製造方法
中田 文夫, 重中 圭太郎, 山崎 真嗣
出願人：株式会社東芝
出願番号：特願平10-247351 出願日：1998年9月1日
公開番号：特開2000-074735 公開日：2000年3月14日
科研費（文科省・学振）獲得実績 【 表示 ／ 非表示 】
-
フローシステムを用いる迅速かつ高感度スペクトル分析法の研究
1987年4月 - 1989年3月
奨励研究
代表者：中田 文夫