産業財産権 - 生方 俊
件数 7 件-
光記録媒体用組成物および記録/表示媒体
横山泰・生方俊・斎藤雅子
出願人：株式会社ADEKA
出願番号：2007-06005 出願日：2007年3月
公開番号：2008-224834
出願国：国内
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フォトクロミック化合物
横山泰・生方俊・具志堅剛史
出願人：横浜国立大学 シェブロン ユー．エス．エー．インコーポレイテッド
出願番号：2006-063829 出願日：2006年3月
公開番号：2009-046393
出願国：国内
紫外光照射により迅速に着色し、紫外線を止めた後、熱を加えることによって、迅速に消色するフォトクロミック化合物およびその製造方法を提供する。
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感光性組成物及びパターン形成方法
生方俊・高橋幸司・横山泰
出願番号：2005-65616 出願日：2005年3月
出願国：国内
光照射によって現像を経ずにパターン形成が可能な新規の感光性組成物及びパターン形成方法を提供する。
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感光性組成物、高分子構造物およびパターン形成方法
生方俊・原正彦・関隆広・浅見晴洋・神谷格
出願人：理化学研究所・財団法人理工学振興会・三菱化学株式会社
出願番号：２００２－１３４３１３ 出願日：2003年11月
公開番号：２００３－３３２１９９ 公開日：2002年5月
出願国：国内
現像工程を行うことなく、比較的低い露光量でパターンを形成することが可能な感光性組成物を提供すること。
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発振波長可変の有機分布帰還型レーザ
生方俊・礒島隆史
出願人：理化学研究所
出願番号：2003-343191 出願日：2003年10月
出願国：国内
光誘起物質移動材料の回折格子形成特性を利用して高性能な有機分布帰還型レーザを創製することを目的とする。更に、回折格子を消去・再書込み可能であるというアゾベンゼン高分子の特長を利用して、発振波長可変の有機分布帰還型レーザを実現することを目的とする。
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光表面レリーフ形成用感光性材料および感光性薄膜、並びにその感光性材料を用いたレリーフ形成方法
関隆広・市村國宏・是津信行・生方俊
出願人：財団法人 理工学振興会
出願番号：２００１－２８２２１７ 出願日：2001年9月
公開番号：２００３－８２０３３ 公開日：2003年3月
出願国：国内
レリーフの形成効率をより向上させるための高い感度を備え、かつ形成されたレリーフが熱的にも経時的にも安定であり、しかも各種の有機溶剤に対して化学的安定性を有する光表面レリーフ形成用感光性材料および感光性薄膜、並びにその感光性材料を用いるパターン形成方法を提供する。
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感光性組成物、感光性薄膜、及びパターン形成方法
関隆広・生方俊・市村國宏
出願人：東京工業大学長
出願番号：２０００－２９７３８２ 出願日：2000年9月
公開番号：２００２－１０５３３９ 公開日：2002年4月
特許番号/登録番号：3451319
出願国：国内
現像工程を行うことなく光照射のみでパターンを形成すること及び高感度を実現することが可能な感光性材料及び感光性薄膜、並びにそのような感光性材料を用いたパターン形成方法を提供すること。